UV-LED-Systeme
UV-LED Belichtungssysteme, Präzisionsbelichtung für Sieb- und Offsetdruck für Diaschablonen in konventioneller Belichtungsweise, sowie Leiterplattenbelichtung:
Bei der Präzisionsbelichtung sollte die Über- oder Unterstrahlung weitestgehend unabhängig von der Belichtungszeit, d. h. bei einer Über- oder Unterbelichtung sein.
Mit unserem UV-Belichtungssystem erreichen und übertreffen wir diese Kriterien. Unser System Typ X ist variabel aufgebaut, so das wie Belichtungsbreiten von 300 mm – 1800 mm realisieren können. Die Belichtungslänge ist Rahmenabhängig. Für alle UVA-emfpindlichen Emulsionen.
Bei der Präzisionsbelichtung sollte die Über- oder Unterstrahlung weitestgehend unabhängig von der Belichtungszeit, d. h. bei einer Über- oder Unterbelichtung sein.
Mit unserem UV-Belichtungssystem erreichen und übertreffen wir diese Kriterien. Unser System Typ X ist variabel aufgebaut, so das wie Belichtungsbreiten von 300 mm – 1800 mm realisieren können. Die Belichtungslänge ist Rahmenabhängig. Für alle UVA-emfpindlichen Emulsionen.
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Haupteinsatzgebiet: Belichtung von Feinststrukturen, Feinstleiter, z. B. Solar- und grafische Industrie, Siebdruck und Leiterplattenbelichtung.  Weitere Informationen als PDF
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UV-Kleber Belichtungssystem für Sieb und Filtrationsgewebe.
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| Direkt UV-Belichtung |
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| Direkt UV-Belichtung unter Ausschluss von Sauerstoff (Abdeckung durch Glas- oder Trägerfolie) |
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| Direkt UV-Belichtung in speziellen Schutzgas versehenen Räumen. Unsere UV-LED-Einheiten erreichen eine UVA-Energie von 1W/cm² (Entfernung 5 mm). |